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小线宽紫外曝光及配套工艺

　　紫外光刻主要用于微米及亚微米级尺寸的光刻，与刻蚀或金属薄膜工艺结合，可将图形转移至其他材料上。平台的紫外光刻主要与其他工艺配合提供服务，保证图形的一致性和均匀性。
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