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高质量金属膜及介质膜

  平台具备PECVD生长高质量氧化硅、氮化硅介质膜,溅射或电子束蒸发生长钛、铂、金、铬、铝等常用金属薄膜,以及设计并制作各类多层光学膜的能力。可用于超材料生长、金属图形化、光学镀膜等方面。